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更新日期:2024-03-22
簡要描述:
日本microphase石墨烯合成設(shè)備MPCVD-50用于碳納米管的合成、碳成膜、納米陶瓷成膜、氮化、硫?qū)倩锍赡さ取?/p>
燃料 | 電加熱鍋爐 | 結(jié)構(gòu)形式 | 立式 |
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出口壓力 | 高壓 |
日本microphase石墨烯合成設(shè)備MPCVD-50
用于碳納米管的合成、碳成膜、納米陶瓷成膜、氮化、硫?qū)倩锍赡さ取?/p>
目的 : | 用于合成碳納米管、在粉末樣品上沉積碳膜以及各種 CVD 膜沉積的通用管式爐型熱 CVD 設(shè)備。 通過增加氨氣、各種CVD反應(yīng)氣體、升華固體前驅(qū)體、液體前驅(qū)體的引入單元, 可應(yīng)用于氮化、硫?qū)倩铮ǘ蚧fMoS2等)層狀材料沉積等。 |
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特征 : |
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LIB電池用Si負(fù)極材料上的碳涂層
二硫化鉬薄膜
長 CNT/Si 的 SEM 圖像
粉末狀 CNT 的 SEM 圖像
日本microphase石墨烯合成設(shè)備MPCVD-50
基本配置 | 管式爐 | 正常使用溫度 | 400-1000℃ |
爐內(nèi)尺寸 | 60mmφ×L260mm | ||
溫度控制 | 1區(qū)可編程溫度控制器 | ||
外形尺寸 | W300mm x H200mm x D186mm | ||
電容 | 700W | ||
芯管 | 材料 | 石英 | |
尺寸 | OD50mm x ID46mm x L900mm | ||
氣體控制 | 質(zhì)量流量控制器 | ||
引入氣體類型 | 載氣:N2 或 Ar 還原氣體:H2 烴類氣體:C2H2 或 C2H4 或 CH4 | ||
真空計 | 波登管真空計 | ||
排氣泵 | 旋轉(zhuǎn)泵 | ||
外形尺寸 | W156mm x H200mm x D300mm | ||
液體物料引入系統(tǒng) | |||
催化劑前驅(qū)體引入機(jī)制 | |||
外形尺寸 | W1100mm×H1000mm×D500mm |