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更新日期：2024-03-19
簡要描述：
日本imt單負(fù)荷式自動(dòng)拋光機(jī)Rana-3Rana-3采用單獨(dú)加載方法，可以自由設(shè)置1到6個(gè)樣本。由于可以改變支架的轉(zhuǎn)數(shù)，因此可以以相同的轉(zhuǎn)數(shù)對(duì)支架和光盤進(jìn)行拋光，并且拋光后的表面不會(huì)傾斜或變成鉛筆形。支架和碟片均可向前和向后旋轉(zhuǎn)。
| 品牌 | 其他品牌 | 電源電壓 | 其他 |
|---|---|---|---|
| 空載轉(zhuǎn)速 | 1 | 回轉(zhuǎn)數(shù) | 1 |
日本imt單負(fù)荷式自動(dòng)拋光機(jī)Rana-3
Rana-3采用單獨(dú)加載方法，可以自由設(shè)置1到6個(gè)樣本。
由于可以改變支架的轉(zhuǎn)數(shù)，因此可以以相同的轉(zhuǎn)數(shù)對(duì)支架和光盤進(jìn)行拋光，并且拋光后的表面不會(huì)傾斜或變成鉛筆形。
支架和碟片均可向前和向后旋轉(zhuǎn)。
可以進(jìn)行磨削而不會(huì)失去并行性！根據(jù)推薦的拋光原理，可以通過沿相同的轉(zhuǎn)速和方向旋轉(zhuǎn)支架和磨盤來進(jìn)行磨削而不會(huì)失去工件的平行度。
由于可以為Rana-3改變刀架的轉(zhuǎn)數(shù)，因此可以通過沿相同方向和相同次數(shù)旋轉(zhuǎn)而進(jìn)行磨削而不會(huì)失去平行度。
此外，光盤和支架均可反向旋轉(zhuǎn)，因此即使是慣用左手的人也可以輕松地進(jìn)行手部拋光。
粗拋光砂紙或拋光墊
碟片轉(zhuǎn)速200rpm /支架200rpm
精細(xì)拋光鉆石+ Takuma布
碟片轉(zhuǎn)速50-150rpm /支架50-150rpm
壓力可以自動(dòng)增加或減少到設(shè)定的秒數(shù)！配備有自動(dòng)壓力增加功能和樣品自動(dòng)減少功能。
可以將壓力從開始逐漸增加到設(shè)定的秒數(shù)。
您可以設(shè)置秒數(shù)并設(shè)置輸入以逐漸增加或減小壓力。
拋光條件（壓力/轉(zhuǎn)速）可以分為3步！可以在一個(gè)過程中輸入和更改拋光過程中的三個(gè)運(yùn)動(dòng)階段。（ABC設(shè)置）對(duì)于
脆性材料和鋒利的邊緣樣品，可以在低壓和低轉(zhuǎn)速下開始操作，然后逐漸更改為高壓和高轉(zhuǎn)速。
可以記住16種拋光條件！z多可以記錄16個(gè)拋光條件。
當(dāng)需要準(zhǔn)備多個(gè)樣本時(shí)，可以為每個(gè)樣本存儲(chǔ)研究條件，從而實(shí)現(xiàn)高效的工作。
日本imt單負(fù)荷式自動(dòng)拋光機(jī)Rana-3
| 電源 | 單相100V或單相200-220V 三相200-220V |
|---|---|
| 尺寸/重量 | W450 x D705（至排水管）x H500（抬起水頭時(shí)為630）mm，65 kg |
| 磁碟大小 | 拋光盤：Φ250mmAL Takuma盤：Φ250mm 磁性表面盤：Φ250mm *盤另售 |
|---|---|
| 圓盤轉(zhuǎn)速 | 50-400 rpm（可在正向和反向旋轉(zhuǎn)之間切換） |
| 電機(jī)輸出 | 400W（100 / 200V：減速電機(jī)） |
| 手術(shù) | （防水型）帶有非永jiu停止按鈕的觸摸屏 （數(shù)字型）定時(shí)器自動(dòng)停止 可存儲(chǔ)16種拋光條件 ABC設(shè)置（*拋光過程中的條件可分3個(gè)階段進(jìn)行設(shè)置） |
| 供水/排水功能 | 用供水旋塞（帶供水/排水軟管）打開和關(guān)閉 |
| 支架旋轉(zhuǎn) | 50-200 rpm（可在正向和反向旋轉(zhuǎn)之間切換） |
|---|---|
| 電機(jī)輸出 | 120W無刷電機(jī) |
| 樣品數(shù) | 從1到6自由選擇*φ50mmz多3個(gè) |
| 樣品架 | Φ25mm，30mm，40mm x 6，Φ50mmx 3 *定制尺寸的支架和特殊夾具需要咨詢 *支架單獨(dú)出售 |
| 加壓的 | 每個(gè)樣品10-50N |
| 潤滑器 | 標(biāo)準(zhǔn)附件（流量模擬調(diào)整型） |
| 氣源 | 0.5?0.7Mpa *如果為0.7Mpa或更高，則需要單獨(dú)的穩(wěn)壓器。 |
