渦流探傷技術(shù)在電阻檢測(cè)方向上的運(yùn)用
渦流檢測(cè)是建立在電磁感應(yīng)原理基礎(chǔ)之上的一種無(wú)損檢測(cè)方法,它適用于導(dǎo)電材料。當(dāng)把一塊導(dǎo)體置于交變磁場(chǎng)之中,在導(dǎo)體中就有感應(yīng)電流存在,即產(chǎn)生渦流。由于導(dǎo)體自身各種因素(如電導(dǎo)率、磁導(dǎo)率、形狀,尺寸和缺陷等)的變化,會(huì)導(dǎo)致渦流的變化,利用這種現(xiàn)象判定導(dǎo)體性質(zhì),狀態(tài)的檢測(cè)方法,叫渦流檢測(cè)。
相關(guān)(硅,多晶硅,碳化硅等)半導(dǎo)體/太陽(yáng)能電池材料
的新材料/相關(guān)功能性材料(碳納米管,DLC,石墨烯,銀納米線等)
導(dǎo)電薄膜相關(guān)的(金屬,ITO等)
硅基外延離子注入的樣品
化合物與半導(dǎo)體有關(guān)的(GaAs Epi,GaN Epi,InP,Ga等)
其他(*請(qǐng)與我們聯(lián)xi)
無(wú)論樣品大小和形狀如何均可進(jìn)行測(cè)量(但是,大于20mmφ且表面平坦)
[電阻率] 1 m至200Ω·cm
(*所有探頭類型的總范圍/厚度500 um)
[抗熱阻] 10 m至3 kΩ/ sq
(*所有探頭類型的總范圍)
*有關(guān)每種探頭類型的測(cè)量范圍,請(qǐng)參閱以下內(nèi)容。
(1)低:0.01至0.5Ω/□(0.001至
0.05Ω- cm)(2)中:0.5至10Ω/□(0.05至0.5Ω-cm)
(3 ))高:10至1000Ω/□( 0.5至60Ω-??cm)
(4)S高:1000至3000Ω/□(60至200Ω-cm)
(5)太陽(yáng)能晶片:5至500Ω/□(0. 2至15Ω-cm)