thermocera基板加熱的加熱器介紹
用于PVD(氣相沉積/濺射)和CVD等真空薄膜實(shí)驗(yàn)的“超高溫基板加熱加熱器"
具有優(yōu)異的均勻性,溫升特性和可控性,并且易于操作。
BH加熱器:用于大學(xué)研究機(jī)構(gòu)。 采用康塔爾和C/C復(fù)合材料。 外殼和防護(hù)罩作為標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì),以實(shí)現(xiàn)較短的交貨時(shí)間和低廉的價(jià)格。
VH加熱器:采用SiC3,TiC3涂層,PG / PBN擴(kuò)大了應(yīng)用范圍。 與BH一樣,零件和材料是標(biāo)準(zhǔn)化的,以實(shí)現(xiàn)較短的交貨時(shí)間和低廉的價(jià)格。
HT加熱器:為超高溫區(qū)域定制的加熱器。 此外,即使在惡劣的條件下,也可以實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定均勻的加熱。 我們每次都會(huì)根據(jù)您的要求進(jìn)行設(shè)計(jì)。
SH加熱器:由于氣密結(jié)構(gòu),材料和沉積物不會(huì)滲透到內(nèi)部,并且可以長(zhǎng)時(shí)間進(jìn)行穩(wěn)定的加熱。 推薦用于 CVD 實(shí)驗(yàn)。
PVD、退火、高溫樣品臺(tái)等
Φ1英寸、Φ2英寸、Φ4英寸
康塔爾(最高 800°C)
C/C 復(fù)合材料 (最高1600°C)
鉭(最高1200°C)
PVD,高壓/特高壓,惰性/反應(yīng)氣體
Φ2英寸,至Φ6英寸
碳化硅涂層(最高 3°C)
TiC3涂層(最高1600°C)
PG/PBN(最高1200°C)
定制加熱器
,用于超高溫Φ1英寸至Φ6英寸
C/C 復(fù)合材料 (最高1700°C)
碳化硅涂層(最高 3°C)
TiC3涂層(最高1900°C)
CVD,高壓/特高壓,惰性和反應(yīng)性氣體
Φ1英寸至Φ6英寸
鎳鉻線鉻鎳鐵合金板(最高 850°C)
鎢絲 BN 板/鉬蓋 (最高1100°C)
PVD,高壓/超高壓,惰性/反應(yīng)氣體
Φ2英寸至Φ8英寸
有關(guān)加熱器部件,請(qǐng)參閱 VH、HT
鹵素?zé)艏訜崞鲉卧?/span>
Φ4英寸或Φ6英寸
PVD 燈加熱單元
優(yōu)異的升溫特性和均勻性。